• 人民币正式加入SDR篮子 中国金融市场化国际化加速 2018-08-18
  • 田蕊妮生日被杜汶泽弄哭 送香吻答谢老公 2018-08-17
  • 中俄“海上联合-2017”演习正式开始:演兵波罗的海 2018-08-15
  • 中法英三方签署欣克利角核电项目最终投资协议 2018-08-13
  • 新浪体育评现役50大第31星 史上最大合同先生 2018-08-06
  • 物产中大抛地产公司套现转型 对房地产市场态度审慎 2018-08-04
  • 龙门洪刚:股价决定因素是由人性来决定 2018-08-02
  • 无人机和电动车的超概念结合:可以在墙壁上随意行驶 2018-07-27
  • 姆比亚吐槽炎热天气:挣钱太不容易 比喀麦隆还热 2018-07-27
  • 美国二季度GDP增幅上修至1.4%超预期 2018-07-08
  • 三星就Note7事件向中国消费者道歉 2018-06-26
  • 安倍晋三称将探讨在农业领域接纳外国劳动者 2018-06-25
  • 黑田东彦称日银还要坚持宽松 不会放弃2%通胀目标 2018-06-17
  • 小炮跟单指点:送稳胆!俄超赛果10中8+盘口10中8 2018-06-10
  • 多地发布楼市新政 普遍对信贷政策进行差异化调整 2018-06-10
  • 山西新11选5开奖走势图:直流磁控溅射的工艺参数对铝膜沉积速率的影响

    来源:真空技术网(山西泳坛夺金大小1走势 www.baoboda.com.cn)福州大学物理与信息工程学院 作者:郭太良

    直流溅射功率对Al 膜沉积速率的影响

    山西泳坛夺金大小1走势 www.baoboda.com.cn        图1为不同溅射功率下Al膜的沉积速率。实验时溅射功率的变化范围为2000~3000W,其他工艺参数相同:溅射气压为0.5Pa;靶基距80mm;Ar气流量为170sccm,基片温度为130℃。由图1可以看出,随着直流功率的增大,在2~2.4kW范围内,沉积速率几乎成线性增加,这是因为在溅射镀膜过程中,基片上的沉积速率与溅射率成正比关系。但是2.4kW之后沉积速率的增加率明显变小而随后趋于平缓。这种非线性增加的转变,可以解释为: 随着溅射Ar+离子能量的持续增大产生了“离子注入效应”的现象,这种效应使部分离子深入到晶格内部,将绝大部分的能量消耗在靶材内部而不是靶材的表面。

    Al 薄膜沉积速率与直流溅射功率之间关系 

    图1 Al薄膜沉积速率与直流溅射功率之间的关系

    溅射气压对薄膜沉积速率的影响

          图2 是Al薄膜沉积速率与溅射气压之间的关系曲线。实验中溅射气压的变化范围为0.3~0.9Pa,其它参数相同:溅射功率为2600W;靶基距80mm; Ar气流量为170sccm,基片温度为130℃。

          从图2 看出,溅射气压从0.3Pa 增大到0.4Pa的过程中,沉积速率随之增大;在0.4Pa时,沉积速率达到一个极大值,此后沉积速率随着溅射气压的增大而下降。这种现象的产生可以解释为:

    Al薄膜沉积速率与溅射气压之间的关系 

    图2 Al 薄膜沉积速率与溅射气压之间的关系

          由气体分子运动论可知,气体分子平均自由程与压强有如下关系:

     

           式中λ为气体分子平均自由程,k为玻耳曼常数,T为气体温度,d为气体分子直径,p为压强。在保持气体分子直径和气体温度不变的条件下,如果工作压强增大,则气体分子平均自由程将减小,溅射原子与气体分子相互碰撞次数将增加,二次电子发射将增强。由气体放电理论可知,电流密度j0与汤生第三电离系数γ和阴极位降区厚度dc的关系为:

     

           其中ε0是真空中的介电常数,μi是离子的迁移率,Vc是阴极位降。由上面的分析可知,压强增大时,二次电子发射将增强,那么γ就增大,同时dc将随之减小。根据式(2),当γ增大、dc减小时,电流密度j0增大,因此放电加强,溅射能力增强,沉积速率就会增大。当工作气压过大时,沉积速率会减小,原因有两点: 第一,随着Ar气分子的增多,溅射原子与Ar气分子的碰撞次数大量增加,这导致溅射原子能量在碰撞过程中大大损失,致使粒子到达基片的数量减小,沉积速率下降。第二,由于气体分子平均自由程减小,溅射原子的背散射和受气体分子散射的几率增大,而且这一影响已经超过了放电增强的影响。溅射原子经多次碰撞后会有部分逃离沉积区域,基片对溅射原子的收集效率就会减小,从而导致了沉积速率的降低。

    其它相关文章:

    1. 直流磁控溅射法在玻璃基片上制备铝薄膜的工艺研究
    2. 直流磁控溅射的工艺参数对铝膜沉积速率的影响
    3. 溅射铝膜的结构与表面形态分析

      直流磁控溅射的工艺参数对铝膜沉积速率的影响为真空技术网首发,转载请以链接形式标明本文首发网址。

      //www.baoboda.com.cn/application/film/02705.html

      与 真空镀膜 真空镀铝 溅射功率 溅射气压 相关的文章请阅读:

      真空镀膜//www.baoboda.com.cn/application/film/